中国光刻机突破消息引发美股半导体板块暴跌，AI投资泡沫隐忧浮现
美东时间7月27日，受中国国产浸没式DUV光刻机突破消息影响，美股费城半导体指数盘中暴跌超5%，最终收跌2.23%。ASML跌5.8%，英伟达跌4.99%单日市值蒸发近2500亿美元。市场恐慌情绪主要源于对AI基础设施投资可持续性的质疑，英伟达近期超7500亿美元合作与担保引发“融资循环”风险。高盛指出，剔除AI股后标普500实际实现上涨。中国光刻机在28nm成熟制程取得进展，但EUV仍处实验室阶段，对全球芯片供应链冲击有限。